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Tecnología fotónica basada en Nitruro de Silicio para comunicaciones y sensores ópticos

Basándose en las premisas tecnológicas y desarrollos seguidos por la microelectrónica a lo largo de su historia, se presentará una plataforma para obtención de componentes fotónicos basada en guías de ondas de nitruro de silicio (Si3N4), con bajas pérdidas de propagación. El alto nivel de integración conseguido permitirá realizar sistemas compactos a bajo costo y que abarquen desde el espectro visible al infrarrojo.
Con el fin de hacer un uso eficiente de los procesos de fabricación, e inspirado por el modelo de costo compartido que se ha utilizado para ASIC’s en el pasado, el acceso a la plataforma de fabricación se ofrece a través de ejecuciones “Multi Project Wafer” (MPW) para facilitar el acceso a componentes y prototipos de altas prestaciones.
 

Horario: 
2018 - 10:45 to 11:30
Sede: 
Sala 7 Palacio de Convenciones
Fecha de inicio: 
Viernes, Marzo 23, 2018
Conferencista: 

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